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拉普拉斯新能源科技股份有限公司(LAPLACE Renewable Energy Technology Co., Ltd.)成立于2016年,是一家由多位海内外半导体设备领域高端人才创立的高科技高端装备研发制造
企业。拉普拉斯致力于成为领先的泛半导体领域核心工艺解决方案提供商。
拉普拉斯现有人数规模超过1840人,公司拥有一支包含多名外籍专家和多名博士在内的核心研发团队,研发人员占比14.89%,技术人员占比27.28%。公司在深圳坪山区拥有一座8000平方米的研发中心和生产厂房,公司在无锡占地137亩,一期第一栋厂房13000平方米已建设完成并投入使用,可满足单月产能400台套以上的生产需求,未来2-3年将快速完成二期和三期的工厂建设规划。
拉普拉斯主要产品涵盖了低压水平扩散系统(包含硼扩散,磷扩散,氧化/退火)(reduced pressure diffusion and oxidation system)﹑低压化学气相沉积水平镀膜系统(low pressure chemical vapor deposition - LPCVD)﹑等离子体增强化学气相沉积水平镀膜系统(plasma enhanced chemical vapor deposition - PECVD)等高端制造装备以及相关配套自动化系统和工业互联网云平台。
拉普拉斯技术团队曾研发出光伏制造领域首台高产能水平插片式低压扩散氧化炉和立式水平插片式等离子体增强化学气相沉积设备,目前在中国境内拥有已授权**共355项,其中***34项,填补了国内高效光伏电池高端装备技术领域的多项空白,尤其是在新一代TOPCon电池核心设备遥遥领先。
企业。拉普拉斯致力于成为领先的泛半导体领域核心工艺解决方案提供商。
拉普拉斯现有人数规模超过1840人,公司拥有一支包含多名外籍专家和多名博士在内的核心研发团队,研发人员占比14.89%,技术人员占比27.28%。公司在深圳坪山区拥有一座8000平方米的研发中心和生产厂房,公司在无锡占地137亩,一期第一栋厂房13000平方米已建设完成并投入使用,可满足单月产能400台套以上的生产需求,未来2-3年将快速完成二期和三期的工厂建设规划。
拉普拉斯主要产品涵盖了低压水平扩散系统(包含硼扩散,磷扩散,氧化/退火)(reduced pressure diffusion and oxidation system)﹑低压化学气相沉积水平镀膜系统(low pressure chemical vapor deposition - LPCVD)﹑等离子体增强化学气相沉积水平镀膜系统(plasma enhanced chemical vapor deposition - PECVD)等高端制造装备以及相关配套自动化系统和工业互联网云平台。
拉普拉斯技术团队曾研发出光伏制造领域首台高产能水平插片式低压扩散氧化炉和立式水平插片式等离子体增强化学气相沉积设备,目前在中国境内拥有已授权**共355项,其中***34项,填补了国内高效光伏电池高端装备技术领域的多项空白,尤其是在新一代TOPCon电池核心设备遥遥领先。
主营产品
拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430、拉普拉斯低压水平磷扩散设备 LRP430、镀膜自动上下料设备、拉普拉斯电池间隙贴膜机、超高温退火炉、热场、拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430、BHO200型超高温氧化炉、拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430、Bhadra™立式、石英件、Bhadra™真空成型LVA400等产品。