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拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430的图片
参考报价:
面议
品牌:
拉普拉斯
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样本:
暂无
型号:
拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
产地:
广东
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产品简介

设备的应用及特点


应用

本设备适合156-210mm硅片生产,相比常规竖直插片具有更高的镀膜均匀性,能帮助客户提升高效太阳能电池的效率、集中性、和EL良率。本设备具有行业内**产能,能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。



拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430

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